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用于真空沉积装置的蒸发设备及包括该蒸发设备的真空沉积装置

摘要

本发明涉及用于真空沉积装置的蒸发设备,其允许控制待蒸发材料的加热持续时间和强度从而限制蒸发过程中待蒸发材料的退化。本发明提出用于真空沉积装置的蒸发设备,包括用于容纳待蒸发材料的坩埚,坩埚包括底部、主体和开口,和围绕坩埚的主体的至少一部分的加热装置,蒸发设备置于真空沉积装置的具有低于10-3mbar的压强的真空腔中。蒸发设备还包括至少一个介于坩埚主体和加热装置之间的热屏障,热屏障包括至少一个相对于坩埚可移动的第一元件,并且设计成使得在主体上的被考虑的点处坩埚主体所接收的热量在给定的时间符合被考虑点与坩埚底之间的距离的非常值函数,该函数可根据热屏障的第一元件相对坩埚的至少一个移动度来调整。

著录项

  • 公开/公告号CN103526163A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-01-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 瑞必尔;

    申请/专利号CN201310374327.0

  • 申请日2013-07-04

  • 分类号C23C14/24(20060101);

  • 代理机构11247 北京市中咨律师事务所;

  • 代理人吴鹏;马江立

  • 地址 法国贝松斯

  • 入库时间 2024-02-19 22:10:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-26

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C14/24 申请公布日:20140122 申请日:20130704

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-07-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/24 申请日:20130704

    实质审查的生效

  • 2014-01-22

    公开

    公开

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