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光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置

摘要

光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置,涉及深紫外投影光刻物镜结构设计与装调技术领域,为解决现有光学元件轴向调整装置存在的调整行程小,存在倾斜误差的问题,该装置包括电容传感器、镜框、宏微调节机构和导向导轨,电容传感器设置在镜框的上方,用于检测镜框的移动距离;宏微调节机构设置在镜框的边框下面,用于对镜框的宏微动调节;导向导轨设置在镜框的边框外侧,用于限制镜框的移动;所述镜框包括周向均布的三个凸台及三个导向凸台;电容传感器设置凸台上方,宏微调节机构作用在凸台上,导向凸台与导向导轨配合;该装置能在保证调整精度的同时,实现大行程调节;同时,驱动结构作用在镜框上,降低了调整力对光学元件面型的破坏。

著录项

  • 公开/公告号CN103472559A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-12-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201310441881.6

  • 发明设计人 彭海峰;巩岩;倪明阳;赵磊;秦硕;

    申请日2013-09-25

  • 分类号G02B7/02(20060101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构22210 长春菁华专利商标代理事务所;

  • 代理人南小平

  • 地址 130033 吉林省长春市东南湖大路3888号

  • 入库时间 2024-02-19 22:01:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-10

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B7/02 授权公告日:20150610 终止日期:20160925 申请日:20130925

    专利权的终止

  • 2015-06-10

    授权

    授权

  • 2014-01-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B7/02 申请日:20130925

    实质审查的生效

  • 2013-12-25

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明涉及深紫外投影光刻物镜结构设计与装调技术领域,具体涉及一种 可用于光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置。

背景技术

投影光刻装备是大规模集成电路制造工艺中的关键设备,近年来随着集成 电路线宽精细程度的不断提高,投影光学装备的分辨率亦逐渐提高,目前波长 193.368nm的ArF准分子激光器投影光刻装备已成为90nm、65nm和45nm节点 集成电路制造的主流装备。

投影光刻物镜的装配过程中,为获得良好的光学性能需要对光学系统的各 种像差进行补偿,从而相应地需要对某些敏感光学元件的轴向位置进行调整补 偿。同时投影光刻物镜在使用过程中,由于物镜内部的环境改变、加工产品的 变化等情况,也需要相应地调整物镜内部的某些敏感光学元件的轴向位置。并 且由于投影光刻物镜内部镜片的面形大都要求RMS值在1~2nm范围内,因此 无论装配过程中的装调补偿调整还是使用过程中的功能性补偿,均要求实现高 精度调整的同时保证调整力引起的镜片面形尽可能小。

美国专利US7800852B2,于2009年公开了一种光学元件轴向调整装置,三 个驱动器均布于镜框周向以提供驱动力,驱动力作用在三处调节杠杆上,由杠 杆底部的柔性片带动镜框作轴向运动;美国专利US6930842B2,于2005年公开 了一种光学元件保持装置,径向均布的三个压电驱动机构通过柔性机构将切向 驱动转换为轴向运动,从而实现光学元件的轴向运动。但是上述调整装置的调 整行程小,且由于受柔性机构加工工艺、加工精度的限制,难以将轴向调整引 起的倾斜误差控制到合理的范围。

发明内容

本发明为解决现有光学元件轴向调整装置存在的调整行程小,存在倾斜误 差的问题,提供一种光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置。

本发明的技术方案是:

光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置,包括电容传感器、镜 框、宏微调节机构和导向导轨,电容传感器设置在镜框的上方,用于检测镜框 的移动距离;宏微调节机构设置在镜框的边框下面,用于对镜框的宏微动调节; 导向导轨设置在镜框的边框外侧,用于限制镜框的移动。

所述镜框包括周向均布的三个凸台及三个导向凸台;电容传感器设置凸台 上方,宏微调节机构作用在凸台上,导向凸台与导向导轨配合;宏微调节机构 包括导轨、作用平台、压电驱动器、底座、第一联接螺钉、步进电机、丝杠、 第二联接螺钉和驱动圆头;导轨由第一联接螺钉与底座联接在一起;作用平台 与导轨配合;压电驱动器通过第二联接螺钉与作用平台固定在一起;步进电机 与丝杠联接在一起,带动丝杠转动,驱动圆头作用在镜框的凸台上,推动镜框 作轴向运动。

所述每处轴向宏微调节机构中,压电驱动器对称设置在丝杠两侧。

本发明的有益效果:该装置在需要小于压电驱动器行程的位移输出时,压 电驱动器单独作用,镜框在导向导轨作用下作轴向运动;当需要大于压电驱动 器行程的位移输出时,步进电机通电带动丝杠转动使得作用平台做轴向的位移 运动,电容传感器将需要压电驱动器补偿的位移量反馈到外部控制系统,控制 压电驱动器做相应的位移调整,实现对镜框倾斜误差的补偿。综上所述,该装 置能够兼顾快速的大行程调整和精密的微动调整,同时可消除镜框的倾斜误差; 压电驱动器的施力点远离光学元件,能够有效避免调整力对光学元件面型的破 坏。

附图说明

图1为本发明光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置示意图。

图2为本发明所述的宏微调节机构正视图。

图3为本发明所述的宏微调节机构轴测图。

图4为本发明所述的镜框结构示意图。

图5为本发明所述宏微轴向调节装置的控制策略简图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明做进一步说明。

如图1所示,光刻投影物镜系统中光学元件的轴向宏微调节装置,包括电 容传感器1、镜框3、宏微调节机构4和导向导轨5,电容传感器1设置在镜框 3的上方,用于检测镜框3的移动距离;宏微调节机构4设置在镜框3的边框下 面,用于对镜框3的宏微动调节;导向导轨5设置在镜框3的边框外侧,用于 限制镜框3的移动。镜框3内布置光学元件2,由结构胶粘合在一起。

如图2所示,镜框3上具有三个凸台3-1及三个导向凸台3-2,分别沿镜框 周向120°均布,且相邻的凸台3-1与导向凸台3-2的夹角为30°。导向导轨5 与导向凸台3-2配合,起到导向和防止镜框3转动的作用。三个电容传感器1 设置在每个凸台3-1上方。

如图3、4所示,宏微调节机构,包括导轨4-1,作用平台4-2、压电驱动器 4-3、底座4-4、第一联接螺钉4-5、步进电机4-6、丝杠4-7、第二联接螺钉4-8 和驱动圆头4-9。作用平台4-2与导轨4-1紧密配合。步进电机4-6与丝杠4-7 联接在一起,带动丝杠4-7转动。压电驱动器4-3通过第二联接螺钉4-8固定在 一起;导轨4-1由第一联接螺钉4-5与底座4-4联接在一起;步进电机4-6与丝 杠4-7联接在一起,带动丝杠4-7转动,驱动圆头4-9作用在镜框3的凸台3-1 上,推动镜框3作轴向运动。

轴向宏微调节机构4中,压电驱动器4-3固定在作用平台4-2上,且在丝杠 4-7两侧对称布置。

如图5所示,本发明所述的光学元件宏微轴向装置可用于宏动调节和微动 调节。在需要小于压电驱动器4-3行程的位移输出时,压电驱动器4-3单独作用, 镜框3在导向导轨5导向下作轴向运动;当需要大于压电驱动器4-3行程的位移 输出时,步进电机4-6通电带动丝杠4-7转动并使得驱动平台实现轴向的位移, 电容传感器1将需要压电驱动器4-3补偿的位移量反馈到CPU控制模块,CPU 控制模块根据获取的位移信息发送指令至DSP硬件,DSP控制步进电机4-6和 压电驱动器4-3实现所需的运动。

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