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利用具原子台阶衬底制备的InGaN量子点外延片及其制备方法

摘要

本发明揭示了一种利用具原子台阶衬底制备的InGaN量子点发光电器件外延片,包括一具有原子台阶的衬底,所述衬底上生长有N型层,所述N型层与所述衬底具有相同的原子台阶,所述N型层上方生长形成有源区,所述有源区上设置有P型层,所述原子台阶为规则递增型台阶。所述斜切角大于0.05°小于10°;本发明通过衬底表面的原子台阶控制量子点的分布,而应用原子台阶形成的斜切角角度变化,可制备出不同宽度和密度的InGaN量子点有源区,以适应更多的需求。

著录项

  • 公开/公告号CN103296168A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-09-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州新纳晶光电有限公司;

    申请/专利号CN201210047240.8

  • 发明设计人 王怀兵;王辉;黄强;

    申请日2012-02-28

  • 分类号H01L33/20(20100101);H01L33/06(20100101);H01L33/00(20100101);H01S5/343(20060101);

  • 代理机构32102 南京苏科专利代理有限责任公司;

  • 代理人陆明耀;陈忠辉

  • 地址 215125 江苏省苏州市苏州工业园区苏虹东路388号

  • 入库时间 2024-02-19 20:56:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-02-17

    授权

    授权

  • 2013-10-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/20 申请日:20120228

    实质审查的生效

  • 2013-09-11

    公开

    公开

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