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以压印方式制造选择性成长遮罩的方法

摘要

本发明为一种以压印方式制造选择性成长遮罩的方法,包括有下列步骤:提供蓝宝石基板,形成氮化镓基层及绝缘层及光刻胶层,进行压印,进行曝光及显影,进行干蚀刻及清除光刻胶剂。以本发明的方法所制造的选择性成长遮罩,可使纳米柱的成长更容易成为柱状体,且与蓝宝石基板及氮化镓基层相垂直,每一纳米柱彼此间更互相平行。

著录项

  • 公开/公告号CN103378231A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-10-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 奈米晶光电股份有限公司;

    申请/专利号CN201310144119.1

  • 发明设计人 李崇民;李恩加;

    申请日2013-04-23

  • 分类号H01L33/00;H01L33/32;

  • 代理机构北京中原华和知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人寿宁

  • 地址 中国台湾台北市松山区南京东路三段248号17楼之2

  • 入库时间 2024-02-19 20:52:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-05-11

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L33/00 申请公布日:20131030 申请日:20130423

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2013-11-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/00 申请日:20130423

    实质审查的生效

  • 2013-10-30

    公开

    公开

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