用于控制工艺腔室中的气体流动的设备

摘要

在此提供用于在工艺腔室中控制气体流动的设备。在一些实施例中，一种设备用于在工艺腔室中控制气体流动，所述工艺腔室具有在所述工艺腔室内的处理空间与在所述工艺腔室内的泵送空间（pumping volume），所述处理空间配置在基板支撑件上方，所述泵送空间配置在所述基板支撑件下方，所述设备可包括：环状板，所述环状板环绕所述基板支撑件，位于所述基板支撑件的基板支撑表面的水平面（level）附近，其中所述环状板朝所述工艺腔室的内周边表面径向向外延伸，而界定出所述环状板的外边缘与所述内周边表面之间的均匀间隙，其中所述均匀间隙提供从所述处理空间到所述泵送空间的均匀流径。