用于控制光刻胶线宽粗糙度的方法及设备

摘要

本发明提供用于控制及改型光刻胶层的线宽粗糙度（LWR）的方法和设备。在一个实施例中，一种用于控制配置于基板上的光刻胶层的线宽粗糙度的设备包括：腔室主体，所述腔室主体具有界定内部处理区域的顶壁、侧壁和底壁；微波功率发生器，所述微波功率发生器通过波导件耦接至所述腔室主体；以及一个或多个线圈或磁体，所述线圈或磁体配置在所述腔室主体的外周边周围且邻接所述波导件；以及气体源，所述气体源通过气体递送通路耦接至所述波导件。