首页> 中国专利> 一种以冷喷涂方法制备的难熔金属旋转溅射靶材

一种以冷喷涂方法制备的难熔金属旋转溅射靶材

页面导航

摘要

一种以冷喷涂方法制备的难熔金属旋转溅射靶材，采用冷喷涂方法制备难熔金属旋转溅射靶材，基管为不锈钢管，喷涂用难熔金属粉纯度≥99.95%，粒度：150～500目，冷喷涂喷嘴进口处工作气压力为2～3Mpa，温度300～500℃；工作气加热到500～850℃,增压至3.0～3.5Mpa；采用N

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2015-09-09

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C24/04 申请公布日:20130424 申请日:20130201

发明专利申请公布后的驳回
2013-07-03

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C24/04 申请日:20130201

实质审查的生效
2013-04-24

公开

公开

1. 一种以冷喷涂方法制备的难熔金属旋转溅射靶材 [P] . 中国专利： CN103060793A . 2013-04-24
2. 一种平板显示器触摸屏用铝稀土合金旋转溅射靶材的制备方法及其制备靶材 [P] . 中国专利： CN105624619A . 2016-06-01
3. Fine Grained, Non Banded, Refractory Metal Sputtering Targets with a Uniformly Random Crystallographic Orientation, Method for Making Such Film, and Thin Film Based Devices and Products Made Therefrom [P] . 美国专利： US2008271779A1 . 2008-11-06

机译：具有均匀随机晶体学取向的细晶粒，无带状难熔金属溅射靶材，制备此类薄膜的方法以及基于薄膜的器件和由其制成的产品
4. METHOD FOR PREPARING RUTHENIUM OR RUTHENIUM ALLOY-BASED SPUTTERING TARGET, AND RUTHENIUM OR RUTHENIUM ALLOY-BASED SPUTTERING TARGET PREPARED THEREBY [P] . 世界知识产权组织专利： WO2016068362A1 . 2016-05-06

机译：一种制备基于钌或钌合金的溅射靶材的方法，以及由此制备的基于钌或钌合金的溅射靶材
5. METHOD FOR MANUFACTURING TARGET TO BE DIRECTLY REUSED BY USING SPENT GOLD SPUTTERING TARGET THROUGH COLD SPRAY [P] . 韩国专利： KR20160050968A . 2016-05-11

机译：通过冷喷涂通过喷金溅射靶材制造可直接重复使用的靶材的方法