联噻吩衍生物及包含此衍生物的半导体元件

摘要

本发明提供一种联噻吩衍生物，具有下列化学式(I)：其中R为C8～25的烷基；以及A包括本发明还提供一种包含该联噻吩衍生物的半导体元件。

说明书

技术领域

本发明是涉及一种联噻吩衍生物，特别是涉及一种可溶性联噻吩衍生物， 及包含此衍生物的半导体元件。

背景技术

在有机半导体(organic semiconductor)材料的领域中，五环分子是最常被使 用作为主动层的材料，但其缺点包括在空气中会随时间氧化，而造成元件电性 也随时间衰退。因此，开发新型有机半导体材料是近年来业界持续努力的目标。

发明内容

本发明的目的在于开发一种新型的有机半导体材料，从而使得包含此材料 的半导体元件具有载子移动率高、稳定性佳(在大气中不易氧化)、制程简单便 利等优异性能。

本发明提供一种联噻吩(bithiophene)衍生物，具有下列化学式(I)：

其中R为C8～25的烷基；以及A为

本发明提供一种半导体元件，包括：一基板；一栅极，形成于该基板上； 一绝缘层，形成于该栅极与该基板上；一源极与一漏极，形成于该绝缘层上； 以及一半导体层，形成于该绝缘层、该源极与该漏极上，其中该半导体层包括 一如上述化学式(I)所述的联噻吩衍生物。

本发明提供一种新颖的有机半导体材料，其作为核心结构的联噻吩向外延 伸出不同共轭系统，可有效提升材料的电性表现，而与联噻吩连接的烷基长链， 由于有助于材料溶解在一般溶剂中，因而可利用液-液低温制程，藉由例如涂 布方式，进行大面积制作，除了可降低元件生产成本外，也可增加制程便利性。 此外，本发明于分子结构中导入硫原子，藉由硫与硫之间的强烈作用力与前述 烷基长链所产生长链与长链之间的范德华力可进一步促进分子间的排列规则 度，提升材料溶解性。因此，本发明提供一种可溶性的联噻吩有机半导体，其 具有载子移动率高、稳定性佳(在大气中不易氧化)、制程简单便利等优异材料 特性。

为让本发明的上述目的、特征及优点能更明显易懂，下文特举一较佳实施 例，并配合所附附图，作详细说明如下：

附图说明

图1是根据本发明的实施例，一种半导体元件的剖面示意图；

图2是包含实施例1的联噻吩衍生物的半导体元件I的I_D-V_G图；

图3是包含实施例2的联噻吩衍生物的半导体元件II的I_D-V_G图；

图4是包含实施例3的联噻吩衍生物的半导体元件III的I_D-V_G图；

图5是包含实施例4的联噻吩衍生物的半导体元件IV的I_D-V_G图；

图6是包含实施例5的联噻吩衍生物的半导体元件V的I_D-V_G图；以及

图7是包含实施例6的联噻吩衍生物的半导体元件VI的I_D-V_G图；

其中，主要元件符号说明：

10～半导体元件；    12～基板；

14～栅极；          16～绝缘层；

18～源极；          20～漏极；

22～半导体层。

具体实施方式

本发明的一实施例，提供一种联噻吩衍生物，具有下列化学式(I)：

化学式(I)中，R可为C8～25的烷基，A可为

以下列举数个本发明联噻吩衍生物的特定实例：

(化合物DBP-BST)、

(化合物DNp-BST)、

(化合物DBT-BST)、

(化合物DBTT-BST)、

(化合物DDTT-BST)或

(化合物DBTDT-BST)。

请参阅图1，说明本发明的一实施例的一种半导体元件。半导体元件10 包括一基板12、一栅极14、一绝缘层16、一源极18、一漏极20与一半导体 层22。栅极14形成于基板12上。绝缘层16形成于栅极14与基板12上。源 极18与漏极20形成于绝缘层16上。半导体层22形成于绝缘层16、源极18 与漏极20上。值得注意的是，半导体层22包括一如上述化学式(I)所述的联噻 吩衍生物。基板12可为玻璃基板、石英基板、硅晶圆、塑料基板或金属膜。 栅极14、源极18与漏极20可由例如钽合金、银合金、铜合金、铝合金或钼 合金等金属材料或导电高分子(conductive polymers)所构成。绝缘层16可由任 何适合的有机或无机绝缘材料所构成。在此实施例中，半导体元件10为一下 栅极(bottom gate)元件。然，本发明并不以此为限，上述化学式(I)所揭露的联 噻吩衍生物亦可作为上栅极(top gate)元件中位于栅极与源/漏极之间的半导体 层。

本发明提供一种新颖的有机半导体材料，其作为核心结构的联噻吩向外延 伸出不同共轭系统，可有效提升材料的电性表现，而与联噻吩连接的烷基长链， 由于有助于材料溶解在一般溶剂中，因而可利用液-液低温制程，藉由例如涂 布方式，进行大面积制作，除了可降低元件生产成本外，也可增加制程便利性。 此外，本发明于分子结构中导入硫原子，藉由硫与硫之间的强烈作用力与前述 烷基长链所产生长链与长链之间的范德华力可进一步促进分子间的排列规则 度，提升材料溶解性。因此，本发明提供一种可溶性的联噻吩有机半导体，其 具有载子移动率高、稳定性佳(在大气中不易氧化)、制程简单便利等优异材料 特性。

【实施例1】本发明联噻吩衍生物I(化合物DBP-BST)的合成

合成步骤：

(1)4-三丁基锡基联苯(4-tributylstannylbiphenyl；21)的合成

在无水、无氧的操作条件下，于-78℃，将2.5M正丁基锂(n-BuLi)(2.1mL/ 己烷，5.32mmol)加入4-溴联苯(4-bromobiphenyl)(1.24g，5.32mmol)/THF(20mL) 中，于-78℃，反应40分钟后，加入氯化三丁基锡(SnBu₃Cl)(1.65mL，5.85mmol)， 于-78℃，反应1小时后，回至室温反应8小时，待反应结束后，以乙醚(30mL) 与去离子水(50mL)进行萃取，取有机层并利用旋转浓缩仪将乙醚抽掉，最后， 利用减压蒸馏进行纯化，得透明无色油状物(1.83g，78％)。

(2)5，5’-二(4-联苯)-3，3’-二(十四烷基磺酰基)-2，2’-联噻吩(5，5’-di(4-biphenyl) -3，3’-bis(tetradecanylsulfanyl)-2，2’-bithiophene，DBP-BST；3)的合成

在无水、无氧的操作条件下，将4-三丁基锡基联苯 (4-tributylstannylbiphenyl)(21)(0.25g，0.56mmol)加入至diBr-BST(18)(0.2g， 0.26mmol)/Pd(PPh₃)₄(12mg，0.01mmol)/甲苯(30mL)，于140℃，加热回流反应 2天。反应结束后，将甲苯旋干后，以己烷为冲提液进行管柱层析，最后，利 用再结晶而得到橙色固体(110mg，46％)。

¹H NMR(300MHz，CDCl₃)：δ7.7(d，J＝7.8Hz，4H)，7.64(d，J＝7.8Hz，8H)， 7.47(t，J＝7.5Hz，2H)，7.37(d，J＝7.2Hz，4H)，7.35(s，2H)，2.88(t，J＝7.2Hz，4H)， 1.61(m，4H)，1.37(m，4H)，1.22(m，40H)，0.86(t，J＝6.6Hz，6H)。

【实施例2】本发明联噻吩衍生物II(化合物DNp-BST)的合成

合成步骤：

(1)2-三丁基锡基萘(2-tributylstannylnaphthalene；22)的合成

在无水、无氧操作条件下，于-78℃，将2.5M正丁基锂(n-BuLi)(1.9mL/ 己烷，4.83mmol)加入2-溴萘(2-bromonaphthalene)(1g，4.83mmol)/THF(20mL) 中，于-78℃，反应40分钟后，加入氯化三丁基锡(SnBu₃Cl)(1.5mL，5.31mmol)， 于-78℃，反应1小时后，回至室温反应8小时，待反应结束后，加入乙醚(30mL) 与去离子水(50mL)进行萃取，取有机层并利用旋转浓缩仪将乙醚抽掉，最后， 利用减压蒸馏进行纯化，得透明淡黄色油状物(1.68g，83％)。

(2)5，5’-二(萘-2-基)-3，3’-二(十四烷基磺酰基)-2，2’-联噻吩(5，5’-di(naphthalen -2-yl)-3，3’-bis(tetradecanylsulfanyl)-2，2’-bithiophene，DNp-BST；4)的合成

在无水、无氧的条件下，将4-三丁基锡基萘 (4-tributylstannylnaphthalene)(22)(0.24g，0.56mmol)加入至diBr-BST(18)(0.2g， 0.26mmol)/Pd(PPh₃)₄(12mg，0.01mmol)/甲苯(30mL)，于140℃，加热回流反应 2天。反应结束后，将甲苯旋干后，以己烷为冲提液进行管柱层析，最后，利 用再结晶而得到橙色固体(100mg，43％)。

¹H NMR(300MHz，CDCl₃)：δ8.07(s，2H)，7.89～7.82(m，6H)，7.75(dd， J＝7.8Hz，J＝1.8Hz，2H)，7.52～7.47(m，4H)，7.45(s，2H)，2.92(t，J＝7.2Hz，4H)， 1.64(m，4H)，1.39(m，4H)，1.12(m，40H)，0.87(t，J＝6.9Hz，6H)。

【实施例3】本发明联噻吩衍生物III(化合物DBT-BST)的合成

合成步骤：

(1)2-三丁基锡基苯并[b]噻吩(2-tributylstannylbenzo[b]thiophene；23)的合成

在无水、无氧的操作条件下，于0℃，将2.5M正丁基锂(n-BuLi)(3.1mL/ 己烷，7.67mmol)加入苯并[b]噻吩(benzo[b]thiophene)(1.05g，7.67mmol)/THF (20mL)中，于0℃，反应1小时后，加入氯化三丁基锡(SnBu₃Cl)(2.38mL， 8.44mmol)，于0℃，反应30分钟后，回至室温反应8小时，待反应结束后， 加入乙醚(30mL)与去离子水(50mL)进行萃取，取有机层并利用旋转浓缩仪将乙 醚抽掉，最后，利用减压蒸馏进行纯化，得透明淡黄色油状物(1.76g，54％)。

(2)5，5’-二(苯并[b]噻吩-2-基)-3，3’-二(十四烷基磺酰基)-2，2’-联噻吩 (5，5’-di(benzo[b]thiophen-2-yl)-3，3’-bis(tetradecanylsulfanyl)-2，2’-bithiophene， DBT-BST；5)的合成

在无水、无氧的条件下，将2-三丁基锡基苯并[b]噻吩 (2-tributylstannylbenzo[b]thiophene)(23)(0.25g，0.56mmol)加入至diBr-BST (18)(0.21g，0.26mmol)/Pd(PPh₃)₄(12mg，0.01mmol)/甲苯(30mL)，于140℃，加 热回流反应2天。反应结束后，将甲苯旋干后，以己烷为冲提液进行管柱层析， 最后，利用再结晶而得到橙色固体(100mg，42％)。

¹H NMR(300MHz，CDCl₃)：δ7.78(dd，J＝6.6Hz，J＝1.8Hz，4H)，7.45(s，2H)， 7.34(m，4H)，7.27(s，2H)，2.89(t，J＝7.2Hz，4H)，1.63(m，4H)，1.38(m，4H)，1.22 (m，40H)，0.87(t，J＝6.6Hz，6H)。

【实施例4】本发明联噻吩衍生物IV(化合物DBTT-BST)的合成

合成步骤：

(1)2-三丁基锡基苯并[d，d’]噻吩并[3，2-b]噻吩(2-tributylstannylbenzo [d，d’]thieno[3，2-b]thiophene；24)的合成

在无水、无氧的操作条件下，于0℃，将2.5M正丁基锂(n-BuLi)(2.2mL/ 己烷，5.57mmol)加入苯并[d，d’]噻吩并[3，2-b]噻吩 (benzo[d，d’]thieno[3，2-b]thiophene)(15)(1.06g，5.57mmol)/THF(20mL)中，于 0℃，反应1小时后，加入氯化三丁基锡(SnBu₃Cl)(1.73mL，6.13mmol)，于0℃， 反应30分钟后，回至室温反应8小时，待反应结束后，加入乙醚(30mL)与去 离子水(50mL)萃取，取有机层并利用旋转浓缩仪将乙醚抽掉，最后，利用减压 蒸馏进行纯化，得透明淡黄色油状物(1.81g，68％)。

(2)5，5，-二(苯并[d，d’]噻吩并[3，2-b]噻吩2-基)-3，3’-二(十四烷基磺酰基)-2，2’-联 噻吩5，5’-di(benzo[d，d’]thieno[3，2-b]thiophen-2-yl)-3，3’-bis(tetradecanyl  sulfanyl)-2，2’-bithiophene(DBTT-BST；6)的合成

在无水、无氧的条件下，将2-三丁基锡基苯并[d，d’]噻吩并[3，2-b]噻吩 (2-tributylstannylbenzo[d，d’]thieno[3，2-b]thiophene)(24)(0.43g，0.88mmol)加入至 diBr-BST(18)(0.31g，0.4mmol)/Pd(PPh₃)₄(18.5mg，0.02mmol)/甲苯(30mL)，于 140℃，加热回流反应2天。反应结束后，将甲苯旋干后，以甲苯为冲提液进 行管柱层析，最后，利用再结晶而得到红色固体(241mg，60％)。

¹H NMR(300MHz，CDCl₃)：δ7.86～7.80(q，J＝7.5，4H)，7.45(s，2H)， 7.43～7.33(m，4H)，7.25(s，2H)，2.90(t，J＝7.2Hz，4H)，1.64(m，4H)，1.38，(m，4H)， 1.21(m，40H)，0.86(t，J＝6.6Hz，6H)。

【实施例5】本发明联噻吩衍生物V(化合物DDTT-BST)的合成

合成步骤：

(1)2-三丁基锡基二噻吩并[3，2-b；2′，3′-d]噻吩(2-tributylstannyldithieno [3，2-b；2′，3′-d]thiophene；25)的合成

在无水、无氧操作条件下，于0℃，将2.5M正丁基锂(n-BuLi)(2.04mL/ 己烷，5.09mmol)加入二噻吩并[3，2-b；2′，3′-d]噻吩 (dithieno[3，2-b；2′，3′-d]thiophene)(20)(1g，5.09mmol)/THF(20mL)中，于0℃，反 应1小时后，加入氯化三丁基锡(SnBu₃Cl)(1.58mL，5.6mmol)，于0℃下，反应 30分钟后，回至室温反应8小时，待反应结束后，加入乙醚(30mL)与去离子 水(50mL)进行萃取，取有机层并利用旋转浓缩仪将乙醚抽掉，最后，利用减压 蒸馏进行纯化，得透明淡黄色油状物(2.1g，85％)。

(2)5，5’-二(二噻吩并[3，2-b；2′，3′-d]噻吩-2-基)-3，3’-二(十四烷基磺酰基)-2，2’-联 噻吩(5，5’-di(dithieno[3，2-b；2′，3′-d]thiophen-2-yl)-3，3’-bis(tetradecanyl  sulfanyl)-2，2’-bithiophene，DDTT-BST；7)的合成

在无水、无氧的操作条件下，将2-三丁基锡基二噻吩并[3，2-b；2′，3′-d]噻吩 (2-tributylstannyldithieno[3，2-b；2′，3′-d]thiophene)(25)(0.34g，0.7mmol)加入至 diBr-BST(18)(0.25g，0.32mmol)/Pd(PPh₃)₄(14.7mg，0.01mmol)/甲苯(30mL)，于 140℃，加热回流反应2天。反应结束后，将甲苯旋干后，以甲苯为冲提液进 行管柱层析，最后，利用再结晶而得到红色固体(237mg，74％)。

¹H NMR(300MHz，CDCl₃)：7.42(s，2H)，7.39(d，J＝5.1，2H)，7.29(t，J＝5.1， 2H)，7.19(s，2H)，2.29(t，J＝7.5Hz，4H)，1.63(m，4H)，1.37(m，4H)，1.21(m，40H)， 0.86(t，J＝7.2Hz，6H)。

【实施例6】本发明联噻吩衍生物VI(化合物DBTDT-BST)的合成

合成步骤：

(1)2-三丁基锡基苯并[d，d′]噻吩并[3，2-b；4，5-b′]二噻吩(2-tributylstannyl  benzo[d，d′]thieno[3，2-b；4，5-b′]dithiophene；26)的合成

在无水、无氧的操作条件下，于0℃，将2.5M正丁基锂(n-BuLi)(1.87mL/ 己烷，4.69mmol)加入苯并[d，d′]噻吩并[3，2-b；4，5-b′]二噻吩(benzo[d，d ′]thieno[3，2-b；4，5-b′]dithiophene)(11)(1.1g，4.46mmol)/THF(20mL)中，于0 ℃，反应1小时后，加入氯化三丁基锡(SnBu₃Cl)(1.38mL，4.91mmol)，于0℃， 反应30分钟后，回至室温反应8小时，待反应结束后，加入乙醚(30mL)与去 离子水(50mL)进行萃取，取有机层并利用旋转浓缩仪将乙醚抽掉，最后，利用 减压蒸馏进行纯化，得透明淡黄色油状物(1.7g，71％)。

(2)5，5’-二(苯并[d，d′]噻吩并[3，2-b；4，5-b′]二噻吩-2-基)-3，3’-二(十四烷基磺酰 基)-2，2’-联噻吩(5，5’-di(benzo[d，d′]thieno[3，2-b；4，5-b′]dithiophen-2-yl)-3，3’-bis (tetradecanylsulfanyl)-2，2’bithiophene，DBTDT-BST；8)的合成

在无水、无氧的操作条件下，将2-三丁基锡基苯并[d，d′]噻吩并[3，2-b；4，5-b′] 二噻吩(2-tributylstannylbenzo[d，d′]thieno[3，2-b；4，5-b′]dithiophene)(26)(0.31g， 0.57mmol)加入至diBr-BST(18)(0.2g，0.26mmol)/Pd(PPh₃)₄(12mg，0.01mmol)/ 甲苯(30mL)，于140℃，加热回流反应2天。反应结束后，将甲苯旋干后， 以甲苯为冲提液进行管柱层析，最后，利用再结晶而得到红色固体(142mg， 49％)。

¹H NMR(500MHz，CDCl₃)：δ7.88～7.81(q，J＝7.5，4H)，7.48(s，2H)，7.44(t， J＝7.5，2H)，7.36(t，J＝7.5，2H)，7.19(s，2H)，2.91(t，J＝7.5Hz，4H)，1.67(m，4H)， 1.46(m，4H)，1.24(m，40H)，0.87(t，J＝6.5Hz，6H)。

【实施例7】本发明联噻吩衍生物的物理特性

以XRD对本发明联噻吩衍生物I～VI的结晶特性进行分析，结果如表1 所示。

表1

  联噻吩衍生物   2θ(°)   强度(a.u.)   I   4.70   361   II   5.76   998   III   5.85   800   IV   5.61   1262   V   6.16   1850   VI   5.43   1401

根据XRD分析结果，本发明联噻吩衍生物I～VI均具有强结晶特性，致电 性表现佳。

【实施例8】本发明半导体元件的性能测试

请参阅图1，本发明半导体元件10中，栅极14所使用的材料为ITO，绝 缘层16所使用的材料为二氧化硅，半导体层22包括本发明联噻吩衍生物I～VI， 源极18与漏极20所使用的材料为金。

图2～7分别为半导体元件I～VI的I_D-V_G图。下表2为以本发明联噻吩 衍生物I～VI作为半导体层所制作而成的半导体元件I～VI分别在电性图中 V_D＝-50V时的载子移动率(mobility)及Vth值。

表2

由表2可知，本实施例所制作的半导体元件其载子移动率与Vth值均有相 当不错的表现，尤其当以联噻吩衍生物VI作为半导体层时，元件的载子移动 率高达0.45cm²/V-sec。

虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何熟 习此项技艺者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作更动与润饰，因此本 发明的保护范围当视后附的权利要求书所界定的范围为准。