首页> 中国专利> 垂直发射GaAs纳米线阵列光电阴极及制备方法

垂直发射GaAs纳米线阵列光电阴极及制备方法

摘要

本发明提供了一种垂直发射GaAs纳米线阵列光电阴极,包括p型GaAs衬底层、p型变掺杂GaAs纳米线阵列发射层、Cs/O激活层;其中p型GaAs衬底层设置于最下方,p型变掺杂GaAs纳米线阵列发射层包括若干设置于p型GaAs衬底层上底面的等厚的带有陷光结构的p型变掺杂GaAs纳米线,Cs/O激活层若干且分别设置于相应的p型变掺杂GaAs纳米线上底面。

著录项

  • 公开/公告号CN110491751A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京理工大学;

    申请/专利号CN201910443189.4

  • 发明设计人 刘磊;刁煜;夏斯浩;陆菲菲;田健;

    申请日2019-05-27

  • 分类号

  • 代理机构南京理工大学专利中心;

  • 代理人朱宝庆

  • 地址 210094 江苏省南京市孝陵卫200号

  • 入库时间 2024-02-19 16:49:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J1/34 申请日:20190527

    实质审查的生效

  • 2019-11-22

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号