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一种微纳米级双介质圆柱的光散射强度估计方法和系统

摘要

本发明公开了一种微纳米级双介质圆柱的光散射强度估计方法和系统,本发明通过对光散射场分析,建立了含有米氏散射项、一次干涉项和二次干涉项的物理模型。利用有限差分时域(FDTD)法对微纳米级双介质圆柱的散射场在横向电场(TE)和横向磁场(TM)两种模式下分别进行仿真得到的数值解对物理模型进行验证。物理模型解和FDTD数值解的一致性,充分说明基于物理模型估计光散射强度方法的有效性。当单色光照射微纳米级双介质圆柱时,利用本发明估计出光散射强度,进而可应用于利用微结构显色原理制成的像素颜色的计算过程中。

著录项

  • 公开/公告号CN110632029A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 常州大学;

    申请/专利号CN201910880871.X

  • 申请日2019-09-18

  • 分类号

  • 代理机构南京纵横知识产权代理有限公司;

  • 代理人朱远枫

  • 地址 213164 江苏省常州市武进区滆湖路1号

  • 入库时间 2024-02-19 16:40:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/47 申请日:20190918

    实质审查的生效

  • 2019-12-31

    公开

    公开

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