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降低CMOS图像传感器中随机电报噪声的结构及形成方法

摘要

本发明提供一种降低CMOS图像传感器中随机电报噪声的结构及形成方法,位于外延层上的转移管和该转移管一侧的光电二极管;光电二极管上设有钉扎层,转移管栅极下设有不同厚度的氧化硅层,靠近钉扎层一端的转移管栅极下的氧化硅层厚度小于该栅极下其余部分的氧化硅层厚度。本发明利用不同氧化硅厚度形成不同沟道区域的方法来同时满足利用转移管与钉扎层的低耗尽降低电子产生‑复合率,以及抑制浮动扩散点到光电二极管的电流,达到降低光电子转移和积分时间过程的随机电报噪声和暗电流,实现转移管更为灵活的调整和更加有效地抑制随机电报噪声,提高像素单元的动态范围和低光下的响应。

著录项

  • 公开/公告号CN110620125A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201910897870.6

  • 发明设计人 田志;李娟娟;邵华;陈昊瑜;

    申请日2019-09-23

  • 分类号

  • 代理机构上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人戴广志

  • 地址 201203 上海市浦东新区自由贸易试验区高斯路568号

  • 入库时间 2024-02-19 15:53:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/146 申请日:20190923

    实质审查的生效

  • 2019-12-27

    公开

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