非制冷红外焦平面探测器光学窗口的湿法腐蚀方法

摘要

本发明公开了一种非制冷红外焦平面探测器光学窗口的湿法腐蚀方法，包括：以等离子体化学气相沉积法在硅片衬底两面生长二氧化硅介质层；采用直流磁控溅射方法在介质层上依次沉积铬、金形成金属层；通过光刻法在衬底第一底面金属层上形成一次图形的光刻胶层；采用离子束刻蚀方法刻蚀光刻胶掩膜之外衬底第一底面的金属层；腐蚀光刻胶掩膜之外衬底第一底面的二氧化硅层;去除光刻胶层；以剩余的介质层和金属层作为掩膜保护层，腐蚀硅片形成腐蚀深度大于100μm的光学窗口腔体；以及去除掩膜保护层，得到图形化的光学窗口。本发明通过以介质层和金属层为掩膜保护层，在不增加成本、不改变湿法腐蚀液的前提下，达到了选择性湿法腐蚀光学窗口的目的。