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一种高增益带宽积的光探测器及其制造方法

摘要

本发明公开了一种高增益带宽积的光探测器的制造方法,涉及光探测器技术领域,包括以下步骤:步骤S1,在衬底上,依次生长缓冲层、第一渐变层、有源层、第二渐变层、第一功能层、第二功能层、扩散控制层和顶层形成外延结构;步骤S2,对整个外延结构进行第一次锌扩散工艺,使锌扩散至扩散控制层;步骤S3,遮蔽部分外延结构,对未遮蔽部分外延结构进行第二次锌扩散工艺,使锌扩散至第二渐变层以形成TWSOA,被遮蔽部分外延结构形成WGAPD;步骤S4,刻蚀外延结构将TWSOA和WGAPD分离,并形成条形的TWSOA和WGAPD;步骤S5,分别制造TWSOA和WGAPD的电极。本发明还公开了一种高增益带宽积的光探测器。本发明的光探测器的增益带宽积能够达到1000GHz。

著录项

  • 公开/公告号CN110364590A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉光谷量子技术有限公司;

    申请/专利号CN201910616134.9

  • 发明设计人 曾磊;王肇中;

    申请日2019-07-09

  • 分类号

  • 代理机构武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人董婕

  • 地址 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道999号C1-901室

  • 入库时间 2024-02-19 14:58:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/18 申请日:20190709

    实质审查的生效

  • 2019-10-22

    公开

    公开

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