首页> 中国专利> 基于忆阻器件过渡金属氧化物的碱性掺杂的忆阻器件

基于忆阻器件过渡金属氧化物的碱性掺杂的忆阻器件

摘要

忆阻器件包括第一导电材料层。氧化物材料层被布置在第一导电层上。第二导电材料层被布置在氧化物材料层上,其中第二导电层包括金属‑碱合金。

著录项

  • 公开/公告号CN110168761A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 国际商业机器公司;

    申请/专利号CN201880006821.2

  • 申请日2018-01-03

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人酆迅

  • 地址 美国纽约阿芒克

  • 入库时间 2024-02-19 14:44:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-13

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01L45/00 登记生效日:20200225 变更前: 变更后: 申请日:20180103

    专利申请权、专利权的转移

  • 2019-09-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L45/00 申请日:20180103

    实质审查的生效

  • 2019-08-23

    公开

    公开

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