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一种基于双线性插值原理确定发射层析权重矩阵的方法

摘要

本发明涉及一种基于双线性插值原理确定发射层析权重矩阵的方法,首先获得发射层析的三维投影模型;然后将投影积分离散化表示;最后利用双线性插值原理确定层析系统的权重矩阵。本发明方法得到了用于准确描述发射层析投影的三维空间二维Radon变换模型,为三维层析重建提供了理论基础;该方法基于双线性插值原理确定权重矩阵的原理简单,计算效率高,可以快速获得权重矩阵数值;其计算结果精确度高,可以减少计算过程中的离散引起的干扰,大大增加计算结果的准确性;本发明方法不仅能够用于三维空间中的二维Radon变换,对于传统的二维层析技术中的权重矩阵计算同样适用。

著录项

  • 公开/公告号CN110400253A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安工业大学;

    申请/专利号CN201910591999.4

  • 申请日2019-07-02

  • 分类号G06T3/00(20060101);

  • 代理机构61114 西安新思维专利商标事务所有限公司;

  • 代理人黄秦芳

  • 地址 710032 陕西省西安市未央区学府中路2号

  • 入库时间 2024-02-19 14:30:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06T3/00 申请日:20190702

    实质审查的生效

  • 2019-11-01

    公开

    公开

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