被配置为用于增强的真空紫外(VUV)光谱辐射通量的设备以及具有该设备的系统

摘要

描述一种电荷控制设备，用于控制真空腔室中的基板上的电荷。所述设备包括光源、镜及镜支撑件。光源发射具有发散度的辐射束。镜被配置为反射辐射束，其中弯曲的镜的镜表面的曲率被配置为减小辐射束的发散度。镜支撑件被配置为可旋转地支撑弯曲的镜，其中镜的旋转改变辐射束的方向。