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被形成以充当天线开关的半导体器件

摘要

公开用于增强天线开关的插入损耗性能的器件和方法。在一个实例中,公开一种被形成以充当天线开关的半导体器件。半导体器件包含:衬底、介电层以及多晶硅区。衬底包含:本征衬底;金属氧化物半导体器件,延伸到本征衬底中;以及至少一个隔离特征,延伸到本征衬底中且与本征衬底接触。至少一个隔离特征设置为邻近于金属氧化物半导体器件。

著录项

  • 公开/公告号CN110323220A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201910248683.5

  • 发明设计人 金俊德;

    申请日2019-03-29

  • 分类号H01L27/088(20060101);H01L21/8234(20060101);H01Q1/22(20060101);

  • 代理机构11270 北京派特恩知识产权代理有限公司;

  • 代理人康艳青;姚开丽

  • 地址 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号

  • 入库时间 2024-02-19 14:16:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/088 申请日:20190329

    实质审查的生效

  • 2019-10-11

    公开

    公开

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