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基于形态测量学的抑郁症脑皮质下结构易损区域定位方法

摘要

本发明提出的一种基于形态测量学的抑郁症脑皮质下结构易损区域定位方法,在抑郁症患者脑皮质下结构发生显著性的体积或者表面积的变化之前,去定位出那些早期抑郁症导致的脑皮质下结构细微的形态学变化,为识别早期抑郁症患者提供依据。本发明的方法同时采用基于张量和基于轴心距的两种数学模型定位出早期抑郁症导致的脑皮质下结构的细微形态学变化;通过基于张量的数学模型获得脑皮质下结构表面顶点的张量,并通过所述基于轴心距的数学模型获得相应表面顶点相对于其几何中心体的轴心距;进而对获得的抑郁症患者组和正常对照组的脑皮质下结构各个表面顶点的张量和轴心距进行组间形态学差异分析,得出抑郁症患者组的显著性形态学变化区域。

著录项

  • 公开/公告号CN110288590A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-09-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 兰州大学;

    申请/专利号CN201910583879.X

  • 申请日2019-07-01

  • 分类号

  • 代理机构北京汇彩知识产权代理有限公司;

  • 代理人王键

  • 地址 730000 甘肃省兰州市天水南路222号

  • 入库时间 2024-02-19 13:58:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-29

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06T7/00 申请日:20190701

    实质审查的生效

  • 2019-09-27

    公开

    公开

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