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皮米光梳、皮米光梳的制造装置和制造方法

摘要

一种皮米光梳、皮米光梳的制造装置和制造方法,皮米光梳是一种特殊的、相邻栅线的槽宽连续可变的光栅,其特点是每个栅槽的宽度与相邻栅槽相比,相差一个固定差值,例如Δd,这个差值Δd可以从皮米到纳米量级。本发明皮米光梳将为皮米测量提供了一个基准。皮米光梳会产生一个不同于传统光栅的衍射光场分布,由此会带来新的衍射效应,实现新的衍射光学功能,提供皮米光刻、皮米测量、皮米成像等工具,因此,皮米光梳会在半导体光刻、生命科学、光与物质在皮米尺度相互作用等多个领域中发挥重要作用。

著录项

  • 公开/公告号CN110187424A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201910368137.5

  • 发明设计人 周常河;

    申请日2019-05-05

  • 分类号G02B5/18(20060101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构31317 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人张宁展

  • 地址 201800 上海市嘉定区清河路390号

  • 入库时间 2024-02-19 13:45:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B5/18 申请日:20190505

    实质审查的生效

  • 2019-08-30

    公开

    公开

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