一种适合工业生产恩格列净的合成方法

摘要

本发明公开了一种适合工业化生产恩格列净的合成方法，将式(II)化合物经还原反应得到式(I)化合物，然后将式(I)化合物去除保护基制得。本发明采用的恩格列净合成方法工艺简单，只需一步还原反应，有效降低了高毒性、高危险性化学品的反复使用；另外，中间体采用衍生保护再纯化地方法，能有效地进行过程控制，提高了产品质量；具有较强的实际应用价值，适合工业生产。