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具有增强的机械稳定性半导体基座的三维存储器器件及其制造方法

摘要

本发明公开了在形成绝缘层和牺牲材料层的交替堆叠之后,可以穿过所述交替堆叠来形成存储器开口,所述存储器开口随后被填充有柱状半导体基座部分和存储器堆叠结构。通过在移除所述牺牲材料层以形成背侧凹陷部之后选择性地沉积半导体材料,可以通过生长横向突出半导体部分来避免所述柱状半导体基座部分在机械应力下的破损。所述横向突出半导体部分的至少外部部分可以被氧化以形成管状半导体氧化物间隔物。可以在所述背侧凹陷部中形成导电层以便为三维存储器器件提供字线。

著录项

  • 公开/公告号CN110088901A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 闪迪技术有限公司;

    申请/专利号CN201780078283.3

  • 申请日2017-11-10

  • 分类号

  • 代理机构北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人魏利娜

  • 地址 美国德克萨斯州

  • 入库时间 2024-02-19 13:13:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-08-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/11565 申请日:20171110

    实质审查的生效

  • 2019-08-02

    公开

    公开

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