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公开/公告号CN110328616A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-10-15
原文格式PDF
申请/专利权人 恩特格里斯公司;
申请/专利号CN201910638879.5
发明设计人 帕特里克·多林;安德鲁·加尔平;
申请日2013-05-06
分类号B24B53/017(20120101);
代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;
代理人李婷
地址 美国马萨诸塞州
入库时间 2024-02-19 13:08:34
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-11-08
实质审查的生效 IPC(主分类):B24B53/017 申请日:20130506
实质审查的生效
2019-10-15
公开
机译: 具有增强化学机械抛光(CMP)平坦化层平面度的化学机械抛光(CMP)平坦化方法
机译: 具有压力控制和过程监控器的改进化学机械平坦化垫的方法和装置
机译:通过使用真空紫外光的无磨料化学机械平面化/抛光生产的超平坦和超光滑的铜表面
机译:化学机械平坦化(CMP)中的金刚石盘垫修整:一种预测垫板表面形状的表面元素方法
机译:在化学气相沉积的CO膜的化学机械平坦化中作为互连应用的化学机械平坦化的钾油酸溶解剂
机译:纳米粒子含有浆料敌人铜化学机械平坦化的电渗微流量增强磨料分布的研究
机译:研究新型氧化铝纳米磨料及其在铜化学机械平面化(CMP)浆料中与基本化学成分的相互作用。
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机译:
机译:使用在线EDm修整在精密研磨结构陶瓷的金属粘结,超硬磨料砂轮上生成复杂轮廓。