一种高透明性阻隔膜及其制备方法

摘要

本发明提供一种高透明性阻隔膜及其制备方法，其中，稿透明性阻隔膜包括基膜，于基膜上形成一阻隔层，阻隔层为一混合金属‑硅‑氮氧化合物层，且阻隔层的折射率介于1.5～2.2之间，厚度介于20～60nm之间。本发明的高透明性阻隔膜及其制备方法生产稳定性高，且阻隔性能优异，有效减少水气侵入。