一种Ta/Mo双层膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种Ta/Mo双层膜的制备方法，包括如下步骤：1)采用磁控溅射技术，分别安装Ta对靶和Mo对靶；2)抽真空并并对基体进行加热；3)预热3)通入保护气体，并调节沉积气压；4)依次打开Ta靶和Mo靶电源，并调节溅射功率，依次在基底表面沉积Ta膜和Mo膜；5)关闭电源自然冷却至室温，得Ta/Mo双层膜。本发明涉及的制备工艺简单、操作方便，制备的涂层环境友好、硬度高，具有很好的应用前景。