Ta种子层厚度及溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜各向异性磁电阻和矫顽力的影响

张辉; 滕蛟; 马纪东; 于广华; 胡强

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研究了Ta种子层的厚度、溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜各向异性磁电阻值(△p/p)、矫顽力和织构的影响.研究表明,适当的Ta层厚度和较高的Ta层溅射速率对提高Ta/Ni65Co35双层膜的△p/p是有效的.Ta种子层的使用增大了Ta/Ni65Co35双层膜的矫顽力而其溅射速率对Ta/Ni65Co35双层膜矫顽力的影响很小.

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来源
《北京科技大学学报》|2005年第4期|458-461|共4页
作者
张辉; 滕蛟; 马纪东; 于广华; 胡强;
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作者单位

北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;

中国科学院物理研究所,北京,100080;

北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;

中国科学院物理研究所,北京,100080;

北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;

北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;

北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类磁性材料、铁磁材料;
关键词
Ta种子层; 溅射速率; 各相异性磁电阻; 矫顽力; (111)织构;

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