一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构

摘要

本发明公开一种用于多光纤光栅同时刻写的相位掩模板结构，相位掩模板具有光栅侧和非光栅侧，相位掩模板的非光栅侧间隔设有多个光纤定位槽，多根裸光纤定位在相位掩模板非光栅侧定位槽内，多根裸光纤所在平面平行于相位掩模板。本发明通过在相位掩模板非光栅侧设计均匀分布的光纤定位槽，将光纤均匀排布，控制定位槽深，使多根光纤位于相位掩模板近场衍射区域内，同时接受紫外光束的曝光，进行多根光纤光栅的同时刻写。本发明方法能够极大程度的提高光纤光栅的生产效率，有效的利用紫外光束的能量，提高光纤光栅的产能，降低光纤光栅的制作成本。