首页> 外文会议>Conference on diffractive optics and micro-optics >Modeling and testing phase mask stitching error for writing fiber gratings
【24h】

Modeling and testing phase mask stitching error for writing fiber gratings

机译:用于书写光纤光栅的建模与测试相位掩模缝合误差

获取原文

摘要

Superstructure in WDM fiber gratings can cause sidelobes in reflection spectrum. We analyze, diffraction of the e-beam phase masks with stitching error and show how it is imprinted into the fiber grating in side-writing fabrication.
机译:WDM光纤光栅中的上部结构可导致反射光谱中的侧瓣。我们分析,用缝合误差衍射E-束相掩模,并展示如何在侧写制造中印刷到光纤中。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号