首页> 外文会议>Conference on Diffractive Optics and Micro-Optics June 18-22, 2000 Quebec City, Canada >Modeling and testing phase mask stitching error for writing fiber gratings
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Modeling and testing phase mask stitching error for writing fiber gratings

机译:写入光纤光栅的相位掩模拼接误差建模和测试

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摘要

Superstructure in WDM fiber gratings can cause sidelobes in reflection spectrum. We analyze, diffraction of the e-beam phase masks with stitching error and show how it is imprinted into the fiber grating in side-writing fabrication.
机译:WDM光纤光栅中的上层结构会导致反射光谱中的旁瓣。我们分析了具有缝合误差的电子束相位掩模的衍射,并显示了如何在侧写制作中将其压印到光纤光栅中。

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