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一种晶圆表面缺陷模式检测与分析方法

摘要

本发明提出了一种晶圆表面缺陷模式检测与分析方法,该方法能够检测出晶粒的表面缺陷,并判断缺陷晶粒的分布模式及缺陷模式成因。本方法属于晶圆生产制造过程中的缺陷检测领域,旨在解决目前的缺陷检测方法中存在的人工劳动强度大、检测效率低等问题。具体流程包括:获取晶粒图像,通过机器视觉方法生成晶圆缺陷模式图;构建并训练晶圆缺陷模式检测模型与分类模型,检测模型用于判断晶圆是否存在缺陷模式,分类模型用于判断具体的缺陷模式类别;最后根据相似性度量算法在数据库中检索出与待测样本最相似的已标记样本,通过分析已知样本的缺陷模式成因,推断待测样本的缺陷模式成因。

著录项

  • 公开/公告号CN109977808A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-07-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京工业大学;

    申请/专利号CN201910181768.6

  • 申请日2019-03-11

  • 分类号G06K9/00(20060101);G06K9/62(20060101);H01L21/66(20060101);

  • 代理机构11203 北京思海天达知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘萍

  • 地址 100124 北京市朝阳区平乐园100号

  • 入库时间 2024-02-19 12:13:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06K9/00 申请日:20190311

    实质审查的生效

  • 2019-07-05

    公开

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