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一种基于超滑结构形成的接触式磁头滑块

摘要

以现有磁头滑块为基础,对其进行刻蚀形成多个直径约为几十微米的凹槽,无需再进行气垫面刻蚀。超滑结构基底选择具有一定刚度并且具有原子级平整的材料,尺寸比磁头滑块凹槽略小,在超滑结构基底材料底部进行刻蚀形成多个比超滑片尺寸稍大的凹槽,将超滑片通过点胶技术粘接于超滑结构基底的凹槽中,通过适当的压力使胶滴固化并使超滑片底部处于同一高度,再将带有超滑片的超滑结构基底粘接于磁头滑块凹槽中。

著录项

  • 公开/公告号CN109949832A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-06-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京清正泰科技术有限公司;

    申请/专利号CN201910233600.5

  • 发明设计人 杨德智;张清卿;

    申请日2019-03-26

  • 分类号G11B5/187(20060101);

  • 代理机构11489 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人陈超

  • 地址 100084 北京市海淀区清华大学学研大厦B座705

  • 入库时间 2024-02-19 11:46:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):G11B5/187 申请日:20190326

    实质审查的生效

  • 2019-06-28

    公开

    公开

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