首页> 中国专利> 一种高电阻率基底上多孔氧化铝模板的制备方法

一种高电阻率基底上多孔氧化铝模板的制备方法

摘要

本发明公开一种高电阻率基底上多孔氧化铝模板的制备方法,主要采用两步阳极氧化法。该方法包括如下步骤:(1)高电阻率硅基片的清洗;(2)钛膜的制备;(3)铝膜的制备;(4)铝膜的退火;(5)对Al/Ti/Si薄膜的封装及电化学抛光;(6)一次阳极氧化;(7)氧化层的去除以及第二次阳极氧化;(8)通孔、扩孔处理。本发明采用特殊的封装技术在高电阻率基底上制备出较高的有序度,厚度、孔径可调的多孔氧化铝模板,该方法操作简单、成本低、能够实现高电阻率甚至非导电基底AAO的制备,为模板辅助制备纳米材料扩展了应用范围。

著录项

  • 公开/公告号CN109811313A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-05-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州电子科技大学;

    申请/专利号CN201910150917.2

  • 发明设计人 郑辉;陈伟;郑梁;郑鹏;张阳;

    申请日2019-02-28

  • 分类号C23C14/28(20060101);C23C14/16(20060101);C23C14/30(20060101);C23C14/58(20060101);C25F3/20(20060101);C25D11/08(20060101);C25D11/12(20060101);C25D11/20(20060101);C25D11/24(20060101);C23F17/00(20060101);

  • 代理机构33233 浙江永鼎律师事务所;

  • 代理人陆永强

  • 地址 310018 浙江省杭州市下沙高教园区

  • 入库时间 2024-02-19 09:48:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/28 申请日:20190228

    实质审查的生效

  • 2019-05-28

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号