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一种无模板氧化亚铜纳米线阵列的制备方法

摘要

本发明公开了一种无模板氧化亚铜纳米线阵列的制备方法,属于半导体材料技术领域。本发明方法包括步骤:1)将强碱和过硫酸盐溶于去离子水,得到溶液A;2)将洁净的铜基体浸泡在溶液A中处理得到附着在铜基体上的氢氧化铜纳米线阵列;3)将水合肼用去离子水稀释,得到溶液B;4)氢氧化铜纳米线阵列在溶液B中处理,控制好处理时间,得到附着在铜基体上的氧化亚铜纳米线阵列。本发明制得的氧化亚铜纳米线直接生长在导电基体上,且排列整齐;一方面可以避免高分子粘结剂的使用,减少接触电阻;另一方面整齐的阵列结构可以为电子离子的流动提供最短路径。

著录项

  • 公开/公告号CN109748314A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-05-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 郑州大学;

    申请/专利号CN201910225609.1

  • 申请日2019-03-25

  • 分类号C01G3/02(20060101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构37218 济南泉城专利商标事务所;

  • 代理人张贵宾

  • 地址 450001 河南省郑州市市辖区高新技术开发区科学大道100号

  • 入库时间 2024-02-19 09:17:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):C01G3/02 申请日:20190325

    实质审查的生效

  • 2019-05-14

    公开

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