用于处理若干掩模的方法、用于处理基板的方法和用于涂布基板的设备

摘要

一种用于在真空涂布工艺中处理若干掩模的方法。每个掩模被配置为在涂布工艺中使用预定涂布应用时间。方法包括：提供若干匣盒，每个匣盒具有若干掩模狭槽；和根据每个掩模的涂布应用时间，将所述若干掩模分类成至少两个群集群组。方法进一步包括：将所述至少两个群集群组分配到所述若干匣盒中的一个或多个；和根据分配，将所述若干掩模存储在所述若干匣盒中。