法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-08-07
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20181228
实质审查的生效
2019-04-12
公开
公开
机译: 半导体器件,图案布局设计方法,曝光掩模,掩模图案设计方法,半导体器件制造方法和布局设计方法
机译: 记录了半导体集成电路的布局设计系统,半导体集成电路的布局设计方法和计算机可读记录介质,该程序允许计算机执行系统中的特定装置或方法中的特定步骤
机译: 记录了半导体集成电路的布局设计系统,半导体集成电路的布局设计方法和计算机可读记录介质,该程序允许计算机执行系统中的特定装置或方法中的特定步骤