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具有用于减少串扰的屏蔽结构的半导体器件

摘要

方法包括将管芯嵌入在模制材料内;在模制材料和管芯上方形成第一介电层;在第一介电层的远离管芯的上表面上方形成导线;以及在第一介电层和导线上方形成第二介电层。该方法还包括形成穿过第一介电层或第二介电层延伸的第一沟槽开口,其中,第一沟槽开口的纵向轴线与导线的纵向轴线平行,并且其中,没有导电部件在第一沟槽开口的底部处暴露;以及用导电材料填充第一沟槽开口以形成第一接地沟槽。本发明的实施例还涉及具有用于减少串扰的屏蔽结构的半导体器件。

著录项

  • 公开/公告号CN109216324A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN201810693005.5

  • 申请日2018-06-29

  • 分类号H01L23/552(20060101);

  • 代理机构11409 北京德恒律治知识产权代理有限公司;

  • 代理人章社杲;李伟

  • 地址 中国台湾新竹

  • 入库时间 2024-02-19 07:45:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/552 申请日:20180629

    实质审查的生效

  • 2019-01-15

    公开

    公开

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