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一种曲尼司特共结晶体、制备方法及应用

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摘要

本发明公开了一种曲尼司特共结晶体、制备方法及应用。该共结晶体的通式如式1所示。该共结晶体为曲尼司特与酰胺类化合物（R

1. 一种曲尼司特共结晶体、制备方法及应用 [P] . 中国专利： CN109503415A . 2019-03-22
2. 一种SGLT-2抑制剂的L-脯氨酸共结晶体的制备方法 [P] . 中国专利： CN113336733A . 2021-09-03
3. The production of (co) polymers a recess (s) is a continuation (s) by photopolymerization under waves evanescent, (co) polymers obtained and their applications [P] . 法国专利： FR2921065B1 . 2009-11-27

机译：（共）聚合物和凹部的生产是在波消逝下通过光聚合进行的一种或多种延续，所获得的（共）聚合物及其应用
4. A process for the preparation of vitreous - crystalline form body [P] . 德国专利： DE962110C . 1957-04-18

机译：一种玻璃状结晶体的制备方法
5. COLLAR ISOLATION FABRICATION METHOD FOR FORMING TRENCH MEMORY CELL DEVICE BY USING AMORPHOUS SILICON AND SILICON GERMANIUM AS WELL AS SELECTIVE ETCHING PROCESS IN DEFINING COLLAR ISOLATION REGION [P] . 韩国专利： KR20040104369A . 2004-12-10

机译：利用非晶硅和硅锗以及选择性刻蚀过程形成沟槽记忆细胞装置的共隔离制备方法在定义共隔离区域中的应用