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沟槽结隔离放大门极结构及含该结构的SiC光触发晶闸管

摘要

本发明公开了一种沟槽结隔离放大门极结构,包括在第三外延层之上依次制作有第四外延层、第五外延层;在主晶闸管区域的第四外延层上表面内嵌有n+门极接触;还包括沟槽结隔离,沟槽结隔离包括沟槽、结及沟槽中的填充物质;还包括绝缘介质薄膜,绝缘介质薄膜覆盖在第五外延层的各个凸台侧壁、各个凸台之间的第四外延层的上表面,位于各个凸台之间的绝缘介质薄膜的高度低于凸台的上端面;在辅助晶闸管的第五外延层凸台上端面和主晶闸管的n+门极接触上端面分别覆盖有放大门极。本发明还公开了一种含有沟槽结隔离放大门极结构的SiC光触发晶闸管。本发明的结构,提高面积利用率,降低结处的峰值电场。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/74 申请日:20180917

    实质审查的生效

  • 2019-02-15

    公开

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