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一种深度低共熔溶剂辅助合成石墨烯封装Ni2P材料

摘要

本发明公开了一种深度低共熔溶剂辅助合成石墨烯封装Ni2P材料。首先将3d过渡金属化合物与碳源材料混合形成深度低共熔溶剂,然后将形成的深度低共熔溶剂在氮气气氛炉中,加热区上游放置磷化镍,焙烧得到成品。该方法操作简单,制备成本低,易工业化生产,所得石墨烯封装Ni2P材料形貌规整,尺寸可调,具有较好的晶型;此外,石墨烯封装Ni2P材料下形成的相界面有利于电荷的有效分离,提高电催化活性。此外,石墨烯的生成有利于电荷的传输,提高样品的电催化活性,并且石墨烯可以作为“铠甲”,有效的抑制石墨烯封装Ni2P材料的腐蚀,提高催化剂的稳定性;不同配体得到的石墨烯封装Ni2P材料均具有良好的电催化析氢析氧性能。

著录项

  • 公开/公告号CN109516447A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国人民大学;

    申请/专利号CN201811587789.X

  • 发明设计人 牟天成;牟红宇;

    申请日2018-12-25

  • 分类号C01B25/08(20060101);C01B32/182(20170101);C01B3/02(20060101);B82Y40/00(20110101);B82Y30/00(20110101);

  • 代理机构11245 北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人关畅

  • 地址 100872 北京市海淀区中关村大街59号

  • 入库时间 2023-06-17 06:52:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):C01B25/08 申请日:20181225

    实质审查的生效

  • 2019-03-26

    公开

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