一种用于旋转式近场光刻的纳米图形加工系统及方法

摘要

本发明公开了一种用于旋转式近场光刻的纳米图形加工系统及方法。首先在光刻头表面制备用于聚束入射光的表面等离子体透镜，然后在盘片基底表面溅射金属反射层，并在金属反射层表面制备光刻胶感光层。利用硬盘飞行原理，使光刻头与光刻胶盘片间形成稳定的20nm以下的飞行间隙。利用金属反射膜层的反射补偿作用，改善表面等离激元聚束光场的强度和分布特性，弥补表面等离激元在光刻方向的能量衰减，从而提高旋转式近场光刻系统的加工结构深宽比，并兼具良好的陡直度，实现了高效率、高分辨率、低成本的纳米加工。