法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-02-01
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20181022
实质审查的生效
2019-01-08
公开
公开
机译: 具有用于形成集成电路芯片的不同区域的单独掩模的掩模组,包括具有光圈装置的掩模组的曝光系统以及使用该掩模组对半导体晶片进行曝光的方法
机译: 曝光装置和方法是在曝光前对掩模进行预热;一种输送方法,在曝光前将掩模预热;以及根据该曝光设备和方法制造设备的设备制造系统和方法
机译: 液晶显示装置的制造方法,其包括将曝光步骤分为彼此部分重叠的两个曝光区域和具有中间色调部分的光掩模。