公开/公告号CN109385619A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-02-26
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社日本制钢所;
申请/专利号CN201810827079.3
申请日2018-07-25
分类号C23C16/455(20060101);C23C16/50(20060101);
代理机构11315 北京国昊天诚知识产权代理有限公司;
代理人南霆;王宁
地址 日本国东京都
入库时间 2024-02-19 06:40:42
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-02-26
公开
公开
机译: 原子层沉积设备,使用原子层沉积设备的成膜方法以及原子层沉积设备的清洁方法
机译: 成长信息管理装置,成长信息管理系统,成长信息管理装置的控制方法以及成长信息管理程序
机译: 成长信息管理装置,成长信息管理系统,成长信息管理装置控制方法以及成长信息管理程序