首页> 外文OA文献 >Atomistic study of structural and electronic transport properties of silicon quantum dots for optoelectronic applications
【2h】

Atomistic study of structural and electronic transport properties of silicon quantum dots for optoelectronic applications

机译:光电应用硅量子点的结构和电子输运性质的原子研究

摘要

[cat]Les nanopartícules de silici (silicon quantum dots, Si QDs, en anglès) són interessants materials que es proposen com a candidats per a la tercera generació de cel•les solars. Degut al confinement quàntic de les càrregues elèctriques dins del QD, el valor de l'energia de gap del material augmenta a mesura que la mida del QD disminueix, donant valors més gran que el Si bulk i fent que els QDs de Si siguin uns bons candidats per a dispositius amb valors de l'energia de gap modificables. En aquesta Tesi Doctoral proposem un marc teòric per estudiar el transport electrònic en nanoestructures aportant una descripció ab initio dels estats electrònics, basant-se en l'ús conjunt de dues tècniques: la Teoria del Funcional de la Densitat (Density Funcional Theory, DFT, en anglès) pel modelatge de la densitat d'estats del dispositiu i el Hamiltonià de Transferència (Transfer Hamiltonian, TH, en anglès) per la descripció del transport electrònic. Les principals conclusions d’aquesta Tesi Doctoral són: • En el cas de QDs de Si de pocs nanometres dins de matrius dielèctriques, la interfície fortament no-planar entre el Si i el SiO2 requereix un tractament diferent de la communtment utilitzada en l'heterojunció planar Si/SiO2. En aquesta Tesi Doctoral hem observat que, per Si QDs de mida petita, el model de partícula-dins-d'una-caixa no descriu les densitats d'estats i les barrers de potencial d'una forma acurada. Això és degut a què aquest model no recull l'efecte de la interfície, propietat que sembla ser essencial en la mida nanomètrica. • Respecte el transport electrònic en QDs de Si, Per una banda, el corrent d'electrons (forats) és més gran per a QDs DE Si de mida més gran (petita), i, per l'altra banda, el corrent d'electrons (forats) és més important per a sistemes amorfs (cristal•lins). • Les principals influències de dopatge tipus p (amb B) i tipus n (amb P) és (1) les configuracions de més baixa energia de formació són dins del QD quan dopem amb P, i a la interfície entre el QD i la primera capa d'oxígens quan dopem amb B, i (2) hi ha un millora en la conductivitat per la posició energètica més favorable pel dopatge amb P però no per la posició pel dopatge amb B.
机译:[eng]硅纳米颗粒(硅量子点,Si QDs)是有趣的材料,被提议作为第三代太阳能电池的候选材料。由于量子点内电荷的量子限制,随着QD尺寸的减小,材料的间隙能值增加,其值大于块状Si,从而使Si量子点良好。具有可变间隙能量值的器件的候选。在本博士论文中,我们基于两种技术的联合使用,提出了一种从头开始描述电子态的理论框架,以研究纳米结构中的电子传输:密度泛函理论(DFT,DFT,用英语)进行设备状态密度建模,用汉密尔顿传递(TH)进行电子传输描述。该博士论文的主要结论是:•对于介电基质中几纳米的Si QD,Si和SiO2之间的强非平面界面需要与异质结中常用的界面进行不同的处理。平面Si / SiO2。在本博士论文中,我们观察到,对于小尺寸的硅量子点,“盒中粒子”模型无法准确描述状态密度和潜在的障碍。这是因为该模型无法捕获界面的影响,而该属性在纳米尺寸中似乎至关重要。 •关于Si QD中的电子传输,一方面,对于较大(较小)的Si QD,电子电流(空穴)较大,另一方面,电子电流(空穴)较大。电子(空穴)对于非晶(晶体)系统更为重要。 •p型掺杂(带B)和n型掺杂(带P)的主要影响是:(1)当我们掺杂P时,最低形成能构型在QD内,并且在QD与第一层之间的界面处(2)在掺杂P的最有利的能量位置上改善了电导率,但对于掺杂B的位置没有改善。

著录项

  • 作者

    García Castelló Núria;

  • 作者单位
  • 年度 2014
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号