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机译:通过金属辅助化学刻蚀形成的硅纳米线阵列的光学特性:光定位效应的证据
Liubov A Osminkina; Kirill A Gonchar; Vladimir S Marshov; Konstantin V Bunkov; Dmitry V Petrov; Leonid A Golovan; Florian Talkenberg; Vladimir A Sivakov; Victor Timoshenko;
机译:通过轻掺杂硅晶体晶片的金属辅助化学刻蚀产生的纳米线结构的光学特性
机译:金属辅助化学刻蚀形成的硅纳米线的生长,结构和光学性质
机译:用于制造可调发光硅纳米线阵列的非光刻图案化和金属辅助化学蚀刻
机译:作为3D纳米制造平台的硅金属辅助化学蚀刻的开发。
机译:通过金属辅助化学蚀刻制备的硅纳米线阵列的光学评估
机译:光学设备包括使用垂直纳米线的金属辅助化学刻蚀方法及其制造方法。
机译:用于生产光电组件的多孔硅的生产包括在阳极氧化过程中通过局部蚀刻对硅样品进行化学蚀刻
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