机译:高温退火过程中Si(1 0 0)上SiGe外延膜中的应变诱发形貌演化和优先互扩散
机译:由退火的SiGe / Si(100)外延膜中的凹坑不稳定性形成一维表面沟槽
机译:微波退火形成的外延SiGe(100)上Ni(Si,Ge)膜的表征
机译:Ge(001)衬底上Ge
机译:(100)硅上溅射镍钛薄膜的等温和等时退火过程中的应力演变。
机译:高温退火沉积在Si(100)上的Ge层的表面形貌转变
机译:氢退火对Si衬底上SiGe薄膜低温外延生长的影响
机译:通过湿法氧化沉积在si(100)上的非晶siGe层产生的外延si(1-X)GE(x)薄膜的形成