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Comment on “(Ta1−xNbx)2O5 films produced by atomic layer deposition: Temperature dependent dielectric spectroscopy and room-temperature I–V characteristics” J. Appl. Phys.90, 4532 (2001)

机译：原子层沉积产生的“（TA1-XNBX）2O5薄膜：温度依赖性介电光谱和室温I-V特性”J。苹果。 Phys.90,4532（2001）

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R. Brazis; P. Pipinys;
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年度 2003
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