Lithography; Microelectronics; Silicon; Fabrication; Passivation; Masking; Electron Beams; Scanning Electron Microscopy; Etching; Meetings;
机译:通过NIL应用通过先进的边缘光刻技术进行10纳米以下的硅脊纳米加工
机译:纳米压印光刻技术-下一代大体积光刻技术,用于将MEMS技术过渡到纳米制造
机译:基于AFM的纳米制造和柔软光刻三维纳米管型的质量检测
机译:光刻技术和先进蚀刻技术在HfO_2纳米制造MOS电容器中的重要性
机译:通过干扰光刻纳米制造:从图案化到图案转移
机译:用于微纳米加工的电子束光刻
机译:近场光刻中线边缘粗糙度的定量分析与建模:纳米制备中的高图案质量