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Microwave Plasma Source for Neutral-Beam Injection Systems. Quarterly Technical Progress Report.

机译：用于中性束注入系统的微波等离子体源。季度技术进步报告。

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Conceptual design studies of a cusp field rf ion source are described. A

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年度 1981
页码 1-5
总页数 5
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类工业技术;
关键词
Ion sources; Cusped geometries; Design; Neutral beam sources; Radiowave radiation; Research programs; ERDA/700205;

机译：离子源;尖角几何;设计;中性束源;无线电波辐射;研究计划; ERDa / 700205;

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