机译:微波离子源,线性加速器系统,加速器系统,医疗用加速器系统,高能束应用系统,中子发生装置,离子束加工装置,微波等离子体源和等离子体处理装置
公开/公告号JP2007165250A
专利类型
公开/公告日2007-06-28
原文格式PDF
申请/专利权人 HITACHI LTD;
申请/专利号JP20050363586
申请日2005-12-16
分类号H01J27/18;H01J37/08;H01J37/32;H01J37/30;H05H1/46;H05H7/08;H05H3/06;A61N5/10;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 21:13:06