Aluminium Base Alloys; Backscattering; Charge Collection; EDB/070205; EDB/360106; Electrochemistry; Electropolishing; Ion Implantation; Iridium Oxides; Passivation; Rutherford Scattering; Sputtering; Substrates; Thin Films; Titanium alloy 6Al 4v; Titanium Alloys; Vanadium Alloys; Voltametry;
机译:Ti-6Al-4V合金的等离子电解氧化产生的氧化膜的表征
机译:水性电解质中支持的氧化铱膜:通过时间分辨差示反射光谱法监测的电荷注入动力学
机译:离子束溅射沉积法沉积在玻璃和粘土基底上的氧化铟锡薄膜的性能
机译:离子束溅射制备Ta_2O_5 / SiO_2混合膜的应力降低和结构性能
机译:部分预混合电荷压缩点火(PCCI)燃烧和后喷射产生的烟灰的纳米结构和反应性
机译:利用LENS技术鉴定钛合金Ti-6Al-4V的机械性能
机译:Ti-6Al-4V合金上产生的阳极二氧化钛薄膜的耐磨性
机译:通过离子束混合技术在Ti-6al-4V合金基底上产生的氧化铱膜的电荷注入特性