Aluminum; Silicon dioxide; Vapor deposition; Cadmium tellurides; Absorption; Absorption spectra; Angle of incidence; Band spectra; Chemical reactions; Diagnosis(General); Dielectric films; Films; Frequency; Growth(General); Infrared radiation; Low temperature; Model;
机译:通过氟化学等离子体增强化学气相沉积法沉积的c-BN薄膜的原位光电子能谱表征
机译:远程等离子体增强金属有机化学气相沉积法沉积Al掺杂ZnO薄膜的原位光谱椭偏生长研究
机译:椭圆偏振光谱法表征超高频等离子体增强化学气相沉积法沉积微晶硅薄膜的微观结构
机译:原位等离子体分析,通过等离子体增强化学气相沉积法沉积在Si上的氟化非晶碳和氢化非晶碳薄膜的氟掺入,热稳定性,应力和硬度比较
机译:通过铝的物理气相沉积和等离子体增强的三甲基硅烷化学气相沉积产生的薄膜的原位X射线光电子能谱分析。
机译:等离子体增强化学气相沉积系统合成高c轴ZnO薄膜及其紫外光探测器的应用
机译:远程等离子体增强金属有机化学气相沉积法沉积Al掺杂ZnO薄膜的原位光谱椭偏生长研究